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电镜用镀膜仪的主要功能及技术参数
点击次数：455 更新时间：2021-06-25
电镜用镀膜仪可以提供喷碳和溅射两种工作模式。此外，系统配有膜厚晶振仪，可以对膜厚进行准确的控制。设备采用触摸屏控制，过程全自动操作。
电镜用镀膜仪配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得*可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。
电镜用镀膜仪的技术参数：
可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电(用于网格表面亲水化)
设计脉冲式碳丝蒸发方式，可准确控制碳膜厚度
可选石英膜厚检测器，准确控制镀膜厚度，精度达0.1nm
全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程
触摸屏控制，简单方便
真空度7×10-3mbar
溅射电流：0-150mA可调
方形样品仓设计，样品仓尺寸：140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)
工作距离调节范围：30mm-100mm
电镜用镀膜仪的技术指标：
薄膜沉积模式： 喷碳，以及溅射(Pt等)
系统真空度： 10-6mbar
溅射靶材直径： 54mm
碳丝蒸发较大功率： 700W
溅射电流： 15～150mA
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